インフラ・防災・安全
ブース番号S-010
- 大学等シーズ展示
- 基本原理の明確化
- 技術移転
- 共同研究開発
フォトマスクシートを用いた円筒内面露光技術
Exposure on Inner Surfaces of cylindrical Pipes Using a Photomask Sheet
キーワード:
- #MEMS
- #リソグラフィ
- #円筒
- #微細加工
東京電機大学 工学部 先端機械工学科
教授小林 宏史
Tokyo Denki University
ProfessorHiroshi Kobayashi
技術概要
本発明は、円筒内面へのパターン転写を可能とする露光技術です。フォトマスクシートの弾性復元力を利用し、内面へ自動的に密着させる点に特徴があります。感光性樹脂を塗布した円筒試料の内面にフォトマスクシートを設置し、内部に光源を挿入して露光することで、フォトマスク上のパターンを転写します。これにより、従来技術では困難であった小径から大径かつ長尺の円筒内面に対する微細加工が低コストで可能となります。
想定される活用事例
本技術は、円筒内部への微細パターン形成を必要とする多様な分野に適用可能です。例えば、半導体・MEMS分野におけるマイクロ流路やセンサの内面加工、機械分野におけるエンジンシリンダ内壁の機能化が挙げられます。さらに、ノズルや配管などの産業部品の高機能化にも応用可能と考えられます。
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特許情報
- 出願ステージ
- 出願中(公開前)
企業へのメッセージ
内径数十mmの円筒内面へマイクロオーダの微細パターンを一括形成できる見込みである。流体制御、表面改質、円筒内壁の機能化、円筒内面にセンサ加工などへの応用を目指しており、製品適応に向けて共同研究企業を募集している。
お問い合わせ先
研究推進社会連携センター(産官学連携担当)
E-mail: crc@jim.dendai.ac.jp














