出展者詳細

AI・情報通信

ブース番号I-041

  • 大学等シーズ展示
  • プロトタイプ(研究室)
  • 技術移転
  • 共同研究開発

光造形可能なフッ素フリー・低誘電率樹脂

Fluorine-free, low-dielectric resin suitable for stereolithography

キーワード:

  • #低誘電率樹脂
  • #光硬化性樹脂
  • #光造形
  • #3Dプリント
  • #高速通信

横浜国立大学 大学院工学研究院 システムの創生部門

教授丸尾 昭二

Yokohama National University

ProfessorShoji Maruo

共同研究者

  • 東京理科大学 理学部 助教 向井 理

技術概要

低誘電特性(低誘電率・低誘電損失)を持つ材料は、5G/6Gなどの高速通信で用いられる高周波数帯の信号減衰を抑え、高効率な通信を実現するために必要不可欠な材料として注目されています。有望な材料としてPTFEやPFAなどのフッ素樹脂が検討されていますが、成形・加工の難しさや環境規制の問題などがあります。そこで、本研究では、フッ素フリーの低誘電率樹脂を開発しました。この樹脂は、光硬化可能であるため、2光子造形などの超精密光造形や光微細パターニングにも適用できます。

想定される活用事例

自動運転、IoT、AIなどの普及拡大に伴い、情報通信技術の高速化・大容量化・広帯域化が進められています。我々が開発した低誘電率樹脂は、情報通信デバイスにおける伝送損失を抑えることができるため、電子部品や回路基板、パッケージなどへの応用が期待できます。また、この樹脂は光硬化可能であり、超精密光造形にも適用できるため、微小アンテナなどの3Dプリンテッド・エレクトロニクスにも応用できます。

特許情報

出願ステージ
出願中(公開前)
名称
光造形用組成物、及び、造形物の製造方法
特許権者または出願人
国立大学法人横浜国立大学
発明者
向井 理、丸尾 昭二、八田 裕貴
基礎出願番号
特願2025-049681
基礎出願年月日(西暦)
2025年3月25日
出願ステージ
出願中(公開前)
名称
造形装置、造形物生産方法およびプログラム
特許権者または出願人
国立大学法人横浜国立大学
発明者
丸尾 昭二、古川 太一、日高 彰大、藤本 隼太、島田 開、石川 大貴
基礎出願番号
特願2024-536964
基礎出願年月日(西暦)
2023年7月13日

企業へのメッセージ

超高精細な3Dプリント技術である光造形に適用可能な低誘電率・高耐熱樹脂を開発しました。また、ガラスやセラミックス、樹脂などの多様な光硬化インクを用いたマルチマテリアル光造形技術を開発しました。高速通信や光電融合、マイクロ光学素子などの応用分野において産学連携による社会実装を希望

お問い合わせ先

横浜国立大学 研究推進機構 産学官連携推進部門 産学官連携支援室

E-mail: sangaku-cd@ynu.ac.jp