出展者詳細

カーボンニュートラル・環境

ブース番号C-051

  • 大学等シーズ展示
  • 製品・商品化
  • 技術移転
  • 共同研究開発

Pd使用を削減する高活性触媒 — 産業と環境を同時に革新 —

A High-Activity Catalyst for Reduced Pd Usage — Transforming Industry and the Environment —

キーワード:

  • #パラジウム削減
  • #合成触媒
  • #高活性触媒
  • #医薬品・有機EL
  • #ホスフィン化合物
  • #配位子
  • #金属錯体

岩手大学 理工学部 理工学科

教授是永 敏伸

Iwate University

ProfessorToshinobu Korenaga

技術概要

本研究では、新規設計配位子HFTPhosを用いることで、従来のPd触媒系では立体障害の大きいビアリール骨格に対して高触媒量を必要としていた反応を、従来比1/400以下という極めて低触媒量で効率的に進行させる高活性Pd触媒を開発しました。本触媒は立体的に混み合った基質に対しても高い反応性と収率を示し、医薬品や有機EL材料製造におけるコスト削減と環境負荷低減を同時に実現する点で高い優位性を有します。

想定される活用事例

本技術は、医薬品中間体や有機EL・機能性材料に用いられる嵩高いビアリール骨格の合成工程に適用可能です。超低Pd量で高効率合成を実現できるため、高価な貴金属コストや残留Pd除去工程の削減が期待されます。医薬・電子材料分野はいずれも世界市場規模が数兆円規模と大きく、本技術の導入により製造コスト低減と環境負荷低減を同時に達成する産業的・社会的効果が見込まれます。

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特許情報

出願ステージ
公開中
名称
ホスフィン化合物、配位子、金属錯体、及び、合成触媒
特許権者または出願人
国立大学法人岩手大学
発明者
是永 敏伸
基礎出願番号
特願2024-150436
基礎出願年月日(西暦)
2023年9月2日

企業へのメッセージ

本技術に基づく材料の商業用途での安定供給は可能ですので、その合成触媒の活用に向けた共同研究先を希望します。

お問い合わせ先

岩手大学 研究支援・産学連携センター URA

E-mail: urapj@iwate-u.ac.jp